氧化鋁水性漿料分散機

簡要描述：氧化鋁水性漿料分散機，當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的*因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMSD2000系列研磨分散機，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

產(chǎn)品型號：GMSD2000
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-08-20
訪問量：1420

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詳情介紹

    一、產(chǎn)品名稱：氧化鋁水性漿料分散機,氧化鋁水性漿料高速分散機,氧化鋁水性漿料納米分散機,氧化鋁水性漿料超細分散機,氧化鋁漿料分散機

    二、氧化鋁的核心應(yīng)用

    氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

    二、氧化鋁的分散問題

    近年來，已超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體*的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

    在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

    當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的*因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMSD2000系列研磨分散機，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高

    四、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦

    結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦GMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

    五、SGN氧化鋁水性漿料分散機結(jié)構(gòu)

    是由膠體磨和分散機組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于，粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。

    GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

    六、選型表

型號	流量	轉(zhuǎn)速	線速度	功率	入/出口連接
	L/H	rpm	m/s	kw	DN
GMSD2000/4	300	14000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10500	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	2000	7200	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	5000	2850	44	37	DN80/DN65
GMSD2000/30	8000	1420	44	55	DN150/DN125

氧化鋁水性漿料高速分散機,氧化鋁水性漿料納米分散機,氧化鋁水性漿料超細分散機,氧化鋁漿料分散機

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