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創(chuàng)新型納米膠體磨

簡要描述:創(chuàng)新型納米膠體磨,上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進行進一步的改進,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進型的納米膠體磨。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-18
  • 訪  問  量:831
詳情介紹

一、產(chǎn)品名稱:創(chuàng)新型納米膠體磨,創(chuàng)新納米膠體磨,改進型納米膠體磨,改良型納米膠體磨,研磨分散膠體磨,納米研磨分散機

 

二、創(chuàng)新型納米膠體磨簡介

 

上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進行進一步的改進,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改進成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改進型的納米膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

,這種*的設(shè)計,放眼世界,獨上海SGN一家,更多關(guān)于創(chuàng)新型膠體磨的信息,請接洽上思峻,劉!                         
           
創(chuàng)新型膠體磨

三、結(jié)構(gòu)

 

創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散機,簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機,合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能,并且減少了膠體磨和分散機串連后的,時間差因素。從成本上來講,原先兩臺設(shè)備的價格,現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成,性價比更高。

 

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨,研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


 

 

  創(chuàng)新膠體磨
         
四、GMD2000系列納米創(chuàng)新型膠體磨特點:

 

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

 

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

 

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

,研磨分散機,研磨均質(zhì)機,研磨乳化機,全新的設(shè)計理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運行,SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)!

 

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